深圳市利方达科技有限公司

主营:真空镀膜设备

深圳市天星达真空镀膜设备

¥520000元/件 中国 广东 深圳

产品属性

TSV1300:
1300-1500
Φ1300X1500m:
宽2535*高2745*深3412
品牌:
其他
原理类型:
真空蒸发镀膜机
应用领域:
光学薄膜
极限真空度类型:
高真空(0.00001~0.1Pa)
加工定制:
型号:
深圳市天星达真空镀膜设备
极限真空度:
1×10-4Pa
镀膜室尺寸:
Φ1300X1500m
工作真空度:
1×10-4Pa
升压率:
大气至4×10-3Pa≤15min
抽气时间:
大气至4×10-3Pa≤15min
靶材利用率:
100%
基材尺寸:
自定义
可镀基材:
塑胶、玻璃
卷绕速度:
真空室材质:
304
真空获得系统:
大气至4×10-3Pa≤15min
工件运动方式:
桶状上烘烤,三点控温,烘烤温度350°
系统控制:
PLC全自动控制
最高加热温度:
350度
热区加热均匀度:
均匀
冷却方式:
深冷低温冷阱或水冷
流量:
10L/秒
蒸发功率:
整机总功率:
40KW
适用领域:
工业
外观尺寸:
宽2535*高2745*深3412
重量:
2.5吨

公司负责人钱锋博士,1985年毕业于东南大学,1995年留学德国, 2000年获德国工学博士。从事真空行业二十多年,在天星达公司的管理和产品生产过程中,引进国外****的技术和管理方法及严格的品质理念,他和天星达团队的技术人员一起努力,使镀膜机的设计更趋合理,安装生产更趋精细,产品质量更趋完善。现在,天星达真空在设备安装调试过程中全程采用四****质谱残余气体分析仪(RGA),对设备安装进行质谱分析和氦质谱检漏,确保了真空设备的真空质量,缩短了安装周期。在电子枪结构设计上参考国外多款电子枪,天星达真空不断改进电子枪和电源设计,解决了多年*的的高压电源稳压稳流,束斑扫描和位置记忆等难题,很好地满足了客户蒸镀****膜的需求。

应用范围:

该设备采用e型电子枪蒸发源,可蒸发各种高熔点金属和氧化物,可在玻璃,塑料,陶瓷基体上镀制各种多层薄,如:红外膜、宽带增透膜、分光膜、冷光膜、IR-CUT膜、干截止滤光片、偏振膜、电学膜,适用于眼镜、光学镜头、精密光学元件、激光和电子行业的大规模工业生产.

 

主要特点:

l        电子枪输出功率稳定,特殊结构设计有效杜绝二次电子的产生和电子枪打火。

l        转动采用磁流体引入,长期运转密封可靠。

l        工件转动座多重水冷和重力导向设计,运转平稳可靠,径向和轴向跳动3-5mm。

l        采用PLC+触摸屏控制,多重泵阀水电互锁互保护,可全程自动控制,包括真空系统,烘烤系统,整个蒸发镀膜过程。

l        安装采用全程四****质谱监控和氦质谱检漏,真空密封性好,设备工艺稳定可靠。

l        所有零部件采用国内*厂家,电器元件采用进口或合资企业产品,设备24小时连续长期运行可靠稳定。

 

基本参数:

  1.       立式前开门结构,不锈钢真空室Φ1300X1500mm
  2.       ****限真空:1×10-4Pa(空载清洁真空系统,300°烘烤后)。
  3.       恢复真空时间:大气至4×10-3Pa≤15min。
  4.       大抽速主泵,KT-630型扩散泵(18000L/s)两台,配备防湍流装置。
  5.       工件转动:采用磁流体密封转动装置,转动座多重水冷和重力导向设计,运转平稳可靠。
  6.       工件烘烤:桶状上烘烤,三点控温,烘烤温度350°。
  7.       永磁E型电子枪,枪功率10KW/支;可配置单枪或双枪,多穴坩埚和环形坩埚。
  8.       配备美国Inficon公司生产的SQC310C或IC6型石英晶体膜厚控制仪。
  9.       10英寸触摸屏和欧姆龙(PLC)编程控制器,对设备真空系统、蒸发源系统、烘烤系统、工件转动系统、膜厚监控系统等进行监测和控制,可采用自动和手动两种模式。
  10. 10.  可选配Φ16CM的离子源或深冷低温冷阱。


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