SHIELD系列离子接地****

一、产品简介：<*n>
我司所生产的SHIELD系列离子接地****，有“直型和L型、”，可根据土壤降阻要求和现场施工状况来决定选型，此****新型产品采用国外****的工艺配方，外采用99.9%的纯铜作为载体，内置****亲水离子剂，是****一代的主动型接地材料，其接效果为传统接地材料的数倍以上。SHIELD系列离子接地****自问世以来，已经广泛应用于电力，通讯，*等大型系统，取得了良好的社会效益以及客户一致的赞同。

二、产品优点：

▲纯铜载体，****性强，使用寿命达30年以上<*n>
▲内填料为****亲水离子剂，具有吸水保水特性，保证其在干旱恶劣环境中使用<*n>
▲离子交换孔采用底部又排大小孔的设计，有效增加离子交换的效果<*n>
▲采用机械铆接与热熔焊接两种方式，根据的使用环境，而能满足不同的需求<*n>
▲外配送的离子引发剂可以快速与内置的****亲水离子剂发生作用，从而快速降低接地电阻。<*n>

三、型号/规格：

四、作用及原理：<*n>
SHIELD系列离子接地****其作用分为两部分，一是载体采用纯铜，其直径达54mm或60mm，材质一般为铜制或是钢制型，与土壤的直接接触，此部分相当于普通的纯铜接地体；另外一部分的接地效果，主要来自于载体内的****亲水离子剂，在外引发剂的作用下，通过载体的交换孔，向载体外源源不断地释放出大量的负离子，这些离子一方面就是导电的介质，对雷电流起到直接导电的作用；同时，周围的泥土在这些负离子的长期作用下，会起到电化作用，从而形成一个大的导电体。相当于增加了接地体的接地面积，所以我们称这种离子接地体为“主动式降阻接地材料”。

与其它厂家的普通离子接地****相比，我们采用的是循环离子结构体系，内置的****亲水离子剂，本身也是一种吸附剂，当内部的离子量少于一定量时，会吸附周围土壤的一些Na+,Mg+,Ca+等游离的离子，从而保证交换的长久进行，从而避免了其它离子接地****每隔一段时间（大约半年左右），就需要填充一次离子剂的缺点。SHIELD系列离子接地****其*的配方，从根本上解决了这个问题。

五、设计指南

在进行粗略估算时，可参照下表选用特耐接地****的数量：

表<*n>2、安装SHIELD系列离子接地****设计指南

本表编制条件：

1. SHIELD高能防腐离子接地****采用<*n>HT-V-3，垂直埋设；

2. SHIELD高能防腐离子接地****埋设间距大于<*n>3倍接地****长度；

3.计入水平连接导体的影响。

六、用量计算：

影响接地电阻的因素甚多，应在考察现场地理地质、水文、气象资料，实测土壤电阻率的基础上进行接地工程的设计、计算和施工布置。我公司根据大量实际应用经验并结合理论，总结出SHIELD高能防腐离子接地****计算公式，以供设计参考。

1、SHIELD高能防腐离子接地****单根垂直接地****

<*n>Rc=<*n> Ln <*n> ----------(1)

(1)式中：<*n>Rc：SHIELD高能防腐离子接地****接地电阻（Ω）

ρ：土壤电阻率（Ω·<*n>m）

L：接地****长度（<*n>m）

D：添加离子诱发剂后的等效垂直接地体直径，取<*n>0.25-0.35m，一般取0.3m

K：降阻系数

 当<*n>     ρ≤50Ω·m             K取5

50≤ρ＜<*n>100Ω·m        K取10 

100 ≤ρ＜<*n>500Ω·m      K取15

500 ≤ρ＜<*n>1000Ω·m     K取20

ρ≥<*n>1000Ω·m           K取25

2、SHIELD高能防腐离子接地****多根垂直接地****<*n>

<*n> Rn=<*n>  ----------(2)

(2)式中：<*n>Rc：单根SHIELD高能防腐离子接地****接地电阻（Ω）

n: SHIELD高能防腐离子接地****垂直接地****数量（根）

<*n>:  利用系数<*n>(按所列表格选取)

Rn ：<*n>n根垂直SHIELD高能防腐离子接地****的接地电阻（Ω）

3、利用系数η

4、计算示例

（1）<*n>       条件假设：土壤电阻率为<*n>350Ω·m，埋设一套3m SHIELD高能防腐离子接地****。

（2）<*n>       参数设定：ρ<*n>=350Ω·m；L=3m；D=0.3m；K=10。

（3）<*n>       单根SHIELD高能防腐离子接地****接地电阻值：

<*n>Rc=<*n> Ln <*n>=<*n> <*n>×<*n>Ln <*n>=18.22Ω

（4）<*n>       4套<*n>3MlSHIELD高能防腐离子接地****接地电阻值

Rc=38.63；<*n>n=4;η=0.85 代入公式（2）<*n>Rn=<*n>=5.36Ω

七、施工及通用要求：<*n>
SHIELD高能防腐离子接地****采用钻孔或者打井的方式安装，配合标配的离子诱发剂，以SHIELD-55/1500为例，具体的安装步骤如下：<*n>

1、采用钻井机，往地面垂直，钻一深为2000mm，直径为150mm的孔。<*n>
2、将离子诱发剂往孔内倒（或是先将其调成浆糊状），高度大约为30cm；再往孔内灌入适量的水。<*n>
3、将SHIELD免维护高能防腐离子接地****下端朝下，放入孔内，并插入离子诱发剂内。<*n>
4、将引下线连接到SHIELD免维护高能防腐离子接地棒的接线端子上,根据现场的需要，采用铆接或是焊接的方式。<*n>
5、再将剩下的空隙，用离子诱发剂填满（如果不够，可以使用降阻剂，或是电阻率比较低的泥土）<*n>
6、完成施工。<*n>
注意：其测试需要在完成施工大约72小时之后测量，因为刚施工完成，其离子剂还没有完全发生作用，因而测试的数据可能会有一定的偏差。