KCD系列半导体硅片超声波清洗机
适用范围:碎硅片、锅底料、单晶硅片、多晶硅片,太阳能硅片的研磨粒子、粉尘等污物的清洗。
1、全进口工业用加厚不锈钢,耐酸碱,美观*。 |
2、日本高Q值晶片与瑞士粘接工艺,确保了换能器能长时间工作,超声波功率稳定、强劲。 |
3、自动恒温系统30-100°C可调 |
4、可二十四小时连续工作,适应大批量生产。 5、振动方式可选底振、侧振、对振。 6、可设置进水口、排污口及溢流口,保持槽内液体洁净,有效****清洗质量。 |
7、超声波输出功率无级可调,客户可依据被清洗物的特性作****的超声波功率选择及清洗时间的设置 |
8、超声波发生器采用大功率IGBT管及微电脑芯片控制器全波输出方式,使超声波输出功率更强劲、稳定,并且具有故障率低,使用寿命长等特点. |
9、****的第七代德国超声波控制技术,数字化、效果更好,频率更*更好,可选25KHZ、28KHZ、40KHZ、60KHZ...... |
技术规格 | ||||
规格型号 | KCD-1040 | KCD-1040 | KCD-1060 | KCD-1060 |
超声波频率 | 25/28/40KHZ | 25/28/40KHZ | 25/28/40KHZ | 25/28/40KHZ |
超声波功率 | 2400W | 2400W | 3600W | 3600W |
内槽尺寸(mm) | 600×500×280 | 700×400×280 | 1000×400×280 | 1050×400×280 |
加热功率 | 4KW | 4KW | 6KW | 6KW |
工作方式 | 底振/侧振/对振 |