二氧化硅
名称: 二氧化硅(SiO2)
经验告诉我们,氧离子助镀(IAD)SiO将是SiO2薄膜可再现性问题的一个解决方法,并且能在生产环境中以一个可以接受的高速度蒸着薄膜.
SiO2薄膜如果压力过大,薄膜将有气孔并且易碎,相反压力过低薄膜将有吸收并且折射率变大,需要充分提供高能离子或氧离子以便得到合乎需要的速度和特性,必要是需要氧气和*气混合充气,但是这是热镀的情况,冷镀时这种性况不存在.流延聚*薄膜是采用流延工艺生产的聚*薄膜,又可分为普通CPP和蒸煮级CPP两种,透明度****好,厚度均匀,且纵横向的性能均匀,一般用做复合薄膜的内层材料。普通CPP 薄膜的厚度一般在25~50μm 之间,与OPP复合后透明度较好,表面光亮,手感坚挺,一般的礼品包装袋都采用此种材料
pe膜的分类1.五金行业:电脑机壳,镀锌板冲压,铝板,不锈钢板,钛金板 ,塑钢板,玻璃板,太阳能电池板等等。
2.光电行业:LCD液晶显示器,背光板,冷光片,薄膜开关,手机屏幕等等。
3.塑胶行业:ABS、PP注塑制品,PVC板材,亚克力板,仪表,塑胶镜片,喷漆件表面保护等等。
4.印刷行业:PVC、PC板,铝板,胶片等印刷铭板表面保护等等。
称:氧化铪(HfO2)
在150℃的基板上有用电子枪蒸着,折射率在2.0左右,用氧离子助镀可能取和得2.05-2.1稳定的折射率,在8000-12000NM区HFO2用作铝保护膜外层好过SIO2
透光范围(nm) 折射率(N)
550nm 蒸发温度(℃) 蒸发源 应用 杂气排放量
230-7000 2.0 2350 电子枪,增透,高反膜
紫外膜 少
无色圆盘状或灰色颗粒状和片状.