科研实验* Ga2O3靶材 氧化*靶材 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料

纯度 99.99%

产品介绍

     氧化*的别名是三氧化二*，氧化*（Ga2O3）是一种宽禁带半导体，Eg=4.9eV，其导电性能和发光特性长期以来一直引起人们的注意。Ga2O3是一种透明的氧化物半导体材料，在光电子器件方面有广阔的应用前景 ，被用作于Ga基半导体材料的绝缘层，以及紫外线滤光片。它还可以用作O2化学探测器。
 

产品参数

  中文名 氧化*                        分子式 Ga2O3
  分子量 187.44                       密度是5.53g/cm3

   陶瓷靶材采用常压烧结,气氛烧结,热等静压烧结等工艺,严格控制原料的纯度,成分及成型坯料额设计尺寸,坯料经过精密机械加工成靶材,可根据客户要求定制加工特殊掺杂比例靶材。

产品优势        靶材纯度高,致密度高,成分均匀

产品规格     图片靶材，矩形靶材，圆柱靶材，台阶片靶材，管型靶材，根据客户的图纸定制
产品用途    磁控溅射镀膜材料等
产品附件    正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单
产品包装    真*装/真空中性包装/特殊包装外加固包装
适用仪器    各类型号磁控溅射设备

厂家优势
   厂家*
   收货后7日内可协商退换货
   靶材种类齐全

1.氧化物:一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化钛TiO2,二氧化锆ZrO2,二氧化铪HfO2,一氧化钛TiO,五氧化三钛Ti3O5,五氧化二铌Nb2O5,五氧化二钽Ta2O5,氧化钇Y2O3等高纯氧化物镀膜材料。

2.氟化物：氟化钕NbF3,*BaF2,氟化*CeF3,氟化镁MgF2,*LaF3,氟化钇YF3,氟化镱YbF3,氟化铒ErF3等高纯氟化物。

3.其它化合物：硫化锌ZnS,氮化钛TiN,碳化硅SiC,钛酸镧LaTiO3,钛酸钡BaTiO3,钛酸锶SrTiO3,钛酸镨PrTiO3等真空镀膜材料。

4.金属镀膜材料：高纯铝Al,高纯铜Cu,高纯钛Ti,高纯硅Si,高纯金Au,高纯银Ag,高纯铟In,高纯镁Mg,高纯锌Zn,高纯铂Pt,高纯锗Ge,高纯镍Ni,高纯金Au,金锗合金AuGe,金镍合金AuNi,镍铬合金NiCr,钛铝合金TiAl,铜铟*合金CuInGa,铜铟*硒合金CuInGaSe,锌铝合金ZnAl,铝硅合