科研实验* Ga2O3靶材 氧化*靶材 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料

纯度 99.99%

产品介绍

     氧化*的别名是三氧化二*，氧化*（Ga2O3）是一种宽禁带半导体，Eg=4.9eV，其导电性能和发光特性长期以来一直引起人们的注意。Ga2O3是一种透明的氧化物半导体材料，在光电子器件方面有广阔的应用前景 ，被用作于Ga基半导体材料的绝缘层，以及紫外线滤光片。它还可以用作O2化学探测器。
   

产品参数

  中文名 氧化*                        分子式 Ga2O3
  分子量 187.44                       密度是5.53g/cm3

   陶瓷靶材采用常压烧结,气氛烧结,热等静压烧结等工艺,严格控制原料的纯度,成分及成型坯料额设计尺寸,坯料经过精密机械加工成靶材,可根据客户要求定制加工特殊掺杂比例靶材。

产品优势        靶材纯度高,致密度高,成分均匀

产品规格    图片靶材，矩形靶材，圆柱靶材，台阶片靶材，管型靶材，根据客户的图纸定制
产品用途    磁控溅射镀膜材料等
产品附件    正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单
产品包装    真*装/真空中性包装/特殊包装外加固包装
适用仪器    各类型号磁控溅射设备

厂家优势
   厂家*
   收货后7日内可协商退换货
   靶材种类齐全