等离子体(pla*a)又叫做电浆,射频等离子,是由部分电子被剥夺后的原子及原子团被电离后产生的正负离子组成的离子化气体状物质,尺度大于德拜长度的宏观电中性电离气体,其运动主要受电磁力支配,并表现出显著的集体行为。它广泛存在于宇宙中,常被视为是除去固、液、气外,物质存在的第四态。等离子体是一种很好的导电体,利用经过巧妙设计的磁场可以bu捉、移动和加速等离子体。等离子体物理的发展为材料、能源、信息、环境空间、空间物理、地球物理等科学的进一步发展提供了新的技术和工艺。
在等离子体中存在下列物质:被加速而处于高速运动状态的电子;处于激发状态的中性原子、分子;离子化的原子、分子;解离反应过程生成的紫外线;未反应的原子和分子。
等离子体状态中,常压等离子清洗,在电场中加速运动的电子和离子具有很大的动能,捷纳特等离子,能提供激发氧气和四氟化碳(CF4)组成的体系活化所需要的能量。另外,等离子体中含有紫外线和其他光能量,都可以被表面处理工艺加以利用。例如,将塑料表面进行等离子体处理,可以****和****它,吉安等离子,们的印刷性能,这种工艺早已在实践中得到应用。现在半导体中用等离子体处理,****薄膜形成、结晶成长、离子加工、表面分析,已形成丰富多彩的工艺应用。
等离子去除光致*蚀剂
在晶片制造工艺中,使用氧等离子体去除晶片表面*蚀刻(photoresist)。干式工艺唯yi的缺点是等离子体区的活性粒子可能会对一些电敏*的设备造成损害。为了解决这一问题,人们发展了几种工艺,其一是用一个法拉第装置以隔离轰击晶片表面的电子和离子;另一种方法是将清洗蚀刻对象置于活性等离子区之外。(顺流等离子清洗)蚀刻率因电压、气压以及胶的量而定,典型的刻蚀率为100nm/min,正常需要10min。