氧化亚硅真空烧结炉

目前，氧化亚硅(SiOx)是重要的电子和光学材料和锂离子电池负添加剂。传统上生产氧化亚硅的方法是将单质硅和二氧化硅同摩尔比例混合，然后研磨成微米量级的粉末(颗粒越小混合越均匀，相互间接越紧密越有利于反应)，再在负压环境下加热到1250℃以上的温度进行歧化反应，温度越高越快，这样所形成的氧化亚硅以蒸气的形式溢出，并被带到压力和温度较低的地方并被冷凝成为氧化亚硅固体

我公司咸阳鸿峰窑炉设备有限公司较早进入这一领域的厂家，与该领域研究的前沿科研院所长期保持交流沟通，炉体的结构设计及工艺实现得到了很多人士的认可，西北工业大学及哈尔滨工业大学的都给予了很多改进意见，经过多年的研究公司现研发的新一代真空升华设备具有设计合理，运行稳定，成品规格高，良率高，节能环保等特点，可规模化应用于工业生产领域。

该设备为咸阳鸿峰窑炉设备有限公司开发的应用于硅碳原材料一氧化硅制备的设备。

该设备主要应用于真空升华法制备氧化亚硅

该设备温控精度2度。

该设备温度控制1700度以内。

该设备升温速率快。

该设备可以可以在真空度下保持稳定

该设备产量大、能耗低、经过业内验证，做出的材料品质良好。

设备参数

1 名称 HF-RS-A（氧化亚硅升华炉）

2 炉型 卧室

3 设备组成 升华系统、加热系统、温控系统、真空系统、机械系统、冷却系统

4 升华系统由烧结区和收集区组成。

5 温控系统采用 PLC 触屏控制方式

6 加热系统该设备采用电阻丝加热

7 真空系统真空泵真空阀门及管路组成

8 机械部分区外壳采用 304 不锈钢制作

9 冷却系统 该设备配置两段的冷却系统

10 外形尺寸 1600mm*700mm*1600mm (终以设计尺寸为主)