伯东企业（上海）有限公司
上海伯东 线性霍尔离子源 eH Linear
产品属性
- 材质:
- 不锈钢
- 品牌:
- 美国KRI
- 型号:
- eH Linear
因产品配置不同，价格货期需要电议，图片仅供参考，一切以实际合同为准。
KRI 线性霍尔离子源 eH Linear
上海伯东代理美国原装进口 KRI 线性离子源使用 eH 400 做为模组, 能应用于宽范围的衬底, 离子源长度高达 1 米, 通过严格调整模组间的距离可以实现更佳的均匀性和离子流. 由于模组是平行放置, 大大简化了气体, 功率和电子三者的分布. KRI 线性离子源使用标准的端部霍尔模组并使设备的需求简化, 一个低成本, 高电流和低能量的离子束可以很好的使用于 web 涂层, in-line 沉积和圆柱旋转溅射系统.
霍尔离子源 eH 400 尺寸
尺寸: 直径= 3.7“ 高= 3”
放电电压 / 电流: 50-300eV / 5A
操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体
KRI 霍尔离子源 eH Linear 技术参数
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型号 |
eHL400-2/ eHL400-3/ eHL400-4/ eHL400-5 |
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供电 |
DC magnetic confinement |
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- 电压 |
40-200V VDC |
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- 阳及结构 |
模块化 |
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电源控制 |
eHL-30010A |
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配置 |
- |
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- 阴及中和器 |
Filamentless |
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- 离子束发散角度 |
> 45° (hwhm) |
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- 阳及 |
标准或 Grooved |
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- 底座 |
移动或快接法兰 |
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- 高度 |
10 cm |
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宽度 |
10 cm |
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- 长度 |
~ 100cm |
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-工艺气体 |
Ar, Xe, Kr, O2, N2, Others |
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
若您需要进一步的了解 KRI 霍尔离子源, 请联络上海伯东邓女士，分机134