（４）每种薄膜都可以通过微调阀精111确的控制镀膜室中残余气体

成分和含量，从而****蒸镀的材料氧化，求购多弧真空镀膜机，可以把氧的含量降低到****

的程度，还可以充入惰性气体等，这一点湿式镀膜是无法做到的。

（５）由于镀膜设备的不断改进，镀膜过程可以实现连续化从

可以大大地****产品的产量，而且在生产过程中没有对环境的

染。

（６）由于在真空条件下制膜，所以膜的纯度高，密实性好，表

光亮不需要再加工，这就使得膜层的力学性能和化学性能比电

膜和化学膜好。

与真空蒸镀法相比，阴****溅射具有如下特点：

（１）结合力高：由于沉积到基片上的原子能量比真空蒸发镀

１～２个数量级，而且在成膜过程中基片暴露在等离子区中，中频离子镀膜机，

经常被清洗和*，镀膜机，因此薄膜与基片的附着力强。

（２）膜厚可控性和重复性好：由于放电电流及弧电流可以分

制，因此膜厚的可控性和重复性较好，并且可以在较大的表面

得厚度均匀的膜层。

（３）可以制造特殊材料的薄膜：几乎所有的固体都能用溅射

制成薄膜，靶可以是金属、半导体、电介质、多元素的化合物或混

物，而且不受熔点的限制，五金餐具家具展架镀膜，可以溅射高熔点金属成膜，其次，溅射

膜还可以使不同的材质同时溅射制造混合体膜。

1）屏蔽机构
在薄膜长度方向产生非蒸镀区，由屏蔽带、主辊遮板、挡板构成．
主要作用：可以调节蒸镀区的宽度，不同宽度的膜在分切以后可以生
产不同类型和大小的电容薄膜．
2）真空系统
由镀膜室真空系统和卷绕室真空系统构成．主要作用：保证真空
室达到适合蒸镀的真空度．想了解更多离子真空镀膜机|金属表面镀膜机|真空镀膜机设备请联系佛山市佛欣真空设备有限公司