镀膜产品的需要，膜厚均匀性程度的要求会有所不同。在一般工业生产
中，膜厚的不均匀程度要求为 依（猿豫 耀 员缘豫）。为****膜厚均匀度，可
以采取优化靶磁场、优化靶基距、改变基片运动方式、改进靶充气结构、
增加挡板机构、采用气体放电监控系统和膜厚监控仪等措施。想了解更多离子真空镀膜机|金属表面镀膜机|真空镀膜机设备请联系佛山市佛欣真空设备有限公司

显然增加磁场均匀性能够增加靶面刻蚀的均匀性，五金 电镀设备，从而延长靶的寿命、****靶材的利用率，电镀设备，而且合理的电磁场分布还能够有效地****溅射过程的稳定性。可以根据靶面磁力线分布来分析靶表面的刻蚀情况，使等离子体存在于更大的靶面范围，实现靶面的均匀溅射。想了解更多离子真空镀膜机|金属表面镀膜机|真空镀膜机设备请联系佛山市佛欣真空设备有限公司

真空溅射可以用来制备*、减磨、耐热、*蚀等表面强化薄固体润滑薄膜以及电、磁、声、光等功能薄膜材料等。采用Ｃｒ、ＣｒＮ等合金靶或镶嵌靶，在Ｎ２、ＣＨ４等气氛中进行反应溅射镀可以在各种工件上镀Ｃｒ、ＣｒＣ、ＣｒＮ等镀层；用ＴｉＮＴｉＣ等超层涂覆刀具、模具等表面，摩擦系数小，电镀设备，化学稳定性好，具有优耐热、*、****、耐冲击等性能，既可以****刀具、模具等的工作特性，又可以****其使用寿命，一般可使刀具寿命****３～ １０倍；

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