离子镀膜特点主要有：附着力强，膜层不易脱落；绕镀性好，****了表面的覆盖度；镀层质量好；沉积速率高，成膜速度快，可镀制30um的厚膜；镀膜所适用的基体材料与膜材范围广泛。适用于在金属或非金属表面上镀制金属、化合物、非金属材料的膜层。如在钢铁、有色金属、石英、陶瓷、塑料等各种材料的表面镀膜。

  真空镀膜机磁控溅射是在阴****靶表面上方形成一个正交电磁场。当溅射产生的二次电子在阴****位区被加速为高能电子后, 并不直接飞向阳****, 而是在正交电磁场作用下作来回振荡的近似摆线的运动。在运动中高能电子不断的与气体分子发生碰撞, 并向后者转移能量, 使之电离而本身变为低能电子。这些低能电子****终沿磁力线*移到阴****附近而被吸收, 从而避免了高能电子对基板的强烈轰击, 一般电子要经过上百米的飞行才能****终被阳****吸收, 磁控溅射的电离效率很高, 易于放电。

pvd真空镀膜机的使用注意事项：

一、开机要先检查水路的畅通性，确定冷却塔、真空泵是否正常工作，检查气路是否畅通，确定空压机是否正常工作。

二、要确定真空室内的膜料、离子源灯丝、工件架是否按要求放置。

三、工艺完成后要关闭电子枪和离子源等开关，待真空镀膜设备冷却一消失后方可关闭电源。

四、未经允许不可开店电柜、真空室的屏蔽门。