真空蒸发镀膜设备的零部件的表面清洗处理是很有必要的；而且存在杂质的情况下，真空部件的链接和密闭性都有受到影响。

　　污染物杂质对真空完全是一种无用的物质，多弧离子镀膜机会根据杂质的状态将其分为固态杂质、气态杂质以及液体杂质，它们微粒的形式存在。从化学的角度看，既可以是离子的也可以是共价的，既是有机的也可以是无机的。

　　显露的外面的表层****容易被污染到，被污染的情况有很多种，一开始一般是由本身运转形成的。

　　要注意表层吸附、化学作用、清洁和晾干等过程、机械在各种运作过程中都有可能产生污渍使表面污染物增加。

　　前期开始注意机器的*与清洁可以减少后期的很多麻烦，****溅控溅射镀膜机各类小状况的发生，可****工作效率、真空镀膜机镀膜的质量也起到相当重要的作用。

真空镀膜设备真空镀膜机厚度均匀性主要取决于：1。基片材料与靶材的晶格匹配程度2、基片表面温度3. 蒸发功率，速率4. 真空度5. 镀膜时间，厚度大小。

组分均匀性：蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。

晶向均匀性：1。晶格匹配度  2。 基片温度  3。蒸发速率

真空镀膜设备与传统的电镀法相比,真空镀膜技术具有很多的优点,如装饰效果好,金属感强,成本低,污染小,真空蒸发镀膜机易于操作等。特别在非金属物件的应用上,有着传统电镀无法比拟的优势。鉴于此,真空镀膜已被广泛应用于各种塑料、陶瓷、玻璃、蜡、木材等制品的表面金属化上。