蒸发磁控溅射镀膜机将磁控溅射技术和蒸发技术结合在同一镀膜设备里，既利用磁控溅射阴****辉光放电将靶材原子溅出并部分离化沉积在基材上成膜，同时又可利用在真空中以电阻加热将金属镀料熔融并让其汽化再沉积在基材上成膜。增加了设备的用途和灵活性。

该设备应用于手机壳等塑料表面金属化，应用于不导电膜和电磁屏蔽膜沉积。该设备配置了等离子体处理装置，****磁控溅射阴****和电阻蒸发装置等，设备沉积速率快，镀层附着力好，镀层细腻致密，表面光洁度高，且均匀性一致性良好；该机实现镀膜工艺全自动化控制，装载量大，工作可靠，合格率高，生产成本低，绿色环保。

pvd真空镀膜机的使用注意事项：

一、开机要先检查水路的畅通性，确定冷却塔、真空泵是否正常工作，检查气路是否畅通，确定空压机是否正常工作。

二、要确定真空室内的膜料、离子源灯丝、工件架是否按要求放置。

三、工艺完成后要关闭电子枪和离子源等开关，待真空镀膜设备冷却一消失后方可关闭电源。

四、未经允许不可开店电柜、真空室的屏蔽门。

真空镀膜设备真空镀膜机厚度均匀性主要取决于：1。基片材料与靶材的晶格匹配程度2、基片表面温度3. 蒸发功率，速率4. 真空度5. 镀膜时间，厚度大小。

组分均匀性：蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。

晶向均匀性：1。晶格匹配度  2。 基片温度  3。蒸发速率