光学真空镀膜机主要由真空镀膜机室、真空抽气机组限及电柜两部分组成，其广泛应用于微电子、光学成膜、民用装饰、表面工程等领域。光学真空镀膜设备在****油污染和缩短工作周期等方面具有****的性能。

　　光学真空镀膜机工作原理是在高真空状态下、利用电子束对金属或非金属材料加热到适当的温度，材料受热后蒸发成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸发源至被蒸发基片距离大，蒸发出来的蒸汽分子向四处直射，碰到基片就沉积在基片表面形成腊层。

pvd真空镀膜机的使用注意事项：

一、开机要先检查水路的畅通性，确定冷却塔、真空泵是否正常工作，检查气路是否畅通，确定空压机是否正常工作。

二、要确定真空室内的膜料、离子源灯丝、工件架是否按要求放置。

三、工艺完成后要关闭电子枪和离子源等开关，待真空镀膜设备冷却一消失后方可关闭电源。

四、未经允许不可开店电柜、真空室的屏蔽门。

磁控溅射（EMI）电磁屏蔽膜，应用于手提电脑、手机壳、电话、无线通讯、视听电子、摇控器、导航和医用工具等，全自动控制，配置大功率磁控电源，双靶交替使用，恒流输出。*的工件架合理设计，公自转，产量大、良品率高，利用石英晶振膜厚仪测量膜层厚度，可镀制*的膜层厚度。PLC人机界面自动控制系统，随时可修改镀膜参数。