真空蒸发镀膜设备的零部件的表面清洗处理是很有必要的；而且存在杂质的情况下，真空部件的链接和密闭性都有受到影响。

　　污染物杂质对真空完全是一种无用的物质，多弧离子镀膜机会根据杂质的状态将其分为固态杂质、气态杂质以及液体杂质，它们微粒的形式存在。从化学的角度看，既可以是离子的也可以是共价的，既是有机的也可以是无机的。

　　显露的外面的表层****容易被污染到，被污染的情况有很多种，一开始一般是由本身运转形成的。

　　要注意表层吸附、化学作用、清洁和晾干等过程、机械在各种运作过程中都有可能产生污渍使表面污染物增加。

　　前期开始注意机器的*与清洁可以减少后期的很多麻烦，****溅控溅射镀膜机各类小状况的发生，可****工作效率、真空镀膜机镀膜的质量也起到相当重要的作用。

据****人士表示：以溅射的方法进行真空镀膜，由于其镀膜方式的不同，同样的镀材所制备的薄膜效果也会不一样的，虽然肉眼无法看出来，但确实拥有一定的优势。 膜厚稳定性好，由于溅射镀膜膜层的厚度与靶电流和放电电流具有很大的关系，电流越高，溅射效率越大，相同时间内，所镀膜层的厚度相对就大了，因为只要把电流数值控制好，需要镀多厚，或者多薄的膜层都可以了，当然这个厚度是在可允许的范围内，而且控制好电流，无论重复镀多少次，膜层厚度都不会变化，膜厚的稳定性可归结为膜厚良好的可控性和重复性。

离子镀膜特点主要有：附着力强，膜层不易脱落；绕镀性好，****了表面的覆盖度；镀层质量好；沉积速率高，成膜速度快，可镀制30um的厚膜；镀膜所适用的基体材料与膜材范围广泛。适用于在金属或非金属表面上镀制金属、化合物、非金属材料的膜层。如在钢铁、有色金属、石英、陶瓷、塑料等各种材料的表面镀膜。