有机性废气VOc再进入UV光解除臭设备，光解除臭设备内部结构为光氢离子催化氧化装置。光氢离子催化氧化装置能产生大量的高能离子剂活性基团，漆物、苯、*、二*、树脂、*、醛、添加剂等与所产生的空穴的氧化及自由电子的还原能力，二氧化钛和表面接触的H2O、O2发生反应，产生氧化力****强的自由基，这些自由基可分解几乎所有有机物质，将其所含的氢和碳变成水和二氧化碳。在光解除臭设备内，高能紫外线光束与空气、TiO2反应产生的臭氧、·OH(羟基自由基)对恶臭有机气体进行协同分解氧化反应，同时大分子有机气体在紫外线作用下使其链结构断裂，使恶臭有机气体物质转化为无臭味的低分子化合物或者完全氧化，生成水和CO2，整个分解氧化过程在1秒内完成。

 对于恶臭气体处理常见的方法有生物分解法、活性碳吸附法、等离子法、植物喷洒液除臭法和和UV光解净化法。其中UV光解净化技术无论在****成本，运行费用，无二次污染，净化效率等方面经实际工程验证，具有常规除臭技术无法比拟的优势。

  UV光解净化法采用高能UV紫外线，在光解净化设备内，裂解氧化恶臭物质分子链，改变物质结构，将高分子污染物质裂解、氧化为低分子无害物质，其脱臭效率可99%，脱臭效果大大超过*1993年颁布的恶臭物质排放标准（GB14554-93），能处理氨、****、甲硫醇、甲硫醚、苯、*、****、****、****醚等高浓度混合气体，内部光源可使用三年，设备寿命在十年以上，净化技术可靠且非常稳定，净化设备无须日常维护，只需接通电源即可正常使用，且运行成本低，无二次污染。适用范围：食品加工厂、肉类加工厂、屠宰场、家禽饲料场、造纸厂、污水处理厂、垃圾转运站、粪便处理等有机和无机物恶臭气体的脱臭净化处理。炼油厂、橡胶厂、皮革厂、印刷厂、化工厂、中西药厂、金属铸造厂、塑料再生厂、喷涂溶剂等有机和无机物恶臭气体的脱臭净化处理。

uv光解除臭设备技术原理简述：

  在波长范围 170nm-184.9nm（704 kj/mol - 647 kj/mol）高能紫外线的作用下，一方面空气中的氧气被裂解，然后组合产生臭氧；另一方面将恶臭气体的化学键断裂，使之形成游离态的原子或基团；同时产生的臭氧参与到反应过程中，使恶臭气体****终被裂解、氧化生成简单的稳定的化合物，如CO2、H2O、SO2、N2等。

  紫外光催化技术对于某些有机化合物的部分化学键键能高于所提供的UV光子能量，如甲醛的“C=O”键的键能为728kj/mol。目前我们所提供的UV光子的能量为 704kj/mol（正在研发742kj/mol和800kj/mol）。甲醛在170nm的UV紫外光的照射下，会裂解生成游离态的[C=O]*、 H*。一部分[C=O]*与03反应生成CO2，一部分[C=O]*在经过与N2等惰性物质碰撞后失去能量，生成CO，臭氧量充足时可将部分CO氧化成CO2 。

  如果提供的UV紫外线波长为160nm（742kj/mol），则反应过程相对就更加简单一些：甲醛会被直接裂解成游离态的C*、H*，会被O3直接氧化成CO2和H2O。

  以上可见，不同波段的UV紫外线对于同一种物质的光解反应可以是不一样的，UV紫外线的波长越短，即UV光子能量越高，物质的光解反应就越容易，反之越难，甚至没有任何效果。