钛靶

牌号：TA0，TA1，TA2、T****、GR1，GR2，GR3，GR5

钛圆靶 ： 技术条件：符合GB/T2695-1996，ASTM B348-97

钛板靶 ：技术条件：符合GB/T3621-94，ASTM B265-93

规格：100*40、100*45、98*45、98*40、95*45、95*40……各种规格可定制

用途：用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电****薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层，玻璃镀膜工业等

公司针对真空镀膜行业专门成立了靶材事业部，所生产的高纯钛靶、高纯铜靶、镍靶、锆靶、镍铜合金靶，以及运用热等静压工艺生产的铬靶、钛铝靶等已通过第三方*机构检测，完全达到出口欧盟各项检测标准。我公司引进的等离子喷涂机，已安装调试完毕，可*生产磁控溅射所用铬靶、镍铬靶等产品。其产品广泛应用于电子半导体工业镀膜、平面显示镀膜、光数据、光存储镀膜、光伏太阳能表面镀膜、表面工程，仪器仪表、电子、汽车、眼镜医疗器械，石油化工设备、防腐设备、船舶设备、航天航空制造、能源换热设备等行业。