1.蒸发式真空镀膜机是在真空镀膜真空室中利用电阻加热法，将紧贴在电阻丝上的金属电镀材料熔融汽化，汽化了的金属分子沉积于产品基材上，从而获得光滑反射率的膜层，达到金属质感装饰美化产品表面的目的。是获得价廉物美的塑胶件表面装饰的理想设备，任意底色的塑胶件经真空镀膜后皆可镀成金、银、红、紫、蓝、灰、黑、七彩等多种颜色，具有提高产品档次、外观更显华贵等作用。蒸发式真空镀膜机广泛应用于塑料（ABS、PS、PP、PC、PVC、PA、TPU等）、尼龙、陶瓷、树脂、玻璃等材料的玩具、饰物、工艺品、手机壳、电子产品、灯饰配件、化妆包装等行业。大功率蒸发系统，可控硅控制，重复性、稳定性高,独有镀透电极设计，优良工件旋转结构，转速平稳可调，产量大且良品率高。

2.磁控溅射是为了在低气压下进行告诉溅射，必须有效地提高气体的离化率。通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率的方法，利用外加磁场捕捉电子，延长和束缚电子的运动路径，搞高离化率，增加镀膜速率。真空镀膜机设备磁控溅射电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar+和新的电子；新电子飞向基片，Ar+在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜，而产生的二次电子会受到电场和磁场作用，产生电场×磁场所指的方向漂移，简称E×B漂移，其运动轨迹近似于一条摆线。若为环形磁场，则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动，它们的运动路径不仅很长，而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内，并且在该区域中电离出大量的Ar+来轰击靶材，从而实现了高的沉积速率。随着碰撞次数的增加，二次电子的能量消耗殆尽，逐渐远离靶表面，并在电场E的作用下最终沉积在基片上。由于该电子的能量很低，传递给基片的能量很小，致使基片温升较低。

3.真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。 基片与靶材蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。